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10 月 7 日消息,华为海外 X 账号昨日发布了 9 月 29 日的国际媒体圆桌会议摘要。华为常务董事、产品投资评审委员会主任、终端 BG 董事长余承东与多家国际媒体的记者就华为消费者业务及 HarmonyOS 生态系统进行了交流。
在被问及关于 AI、硬件与 EUV 的问题时,余承东表示,极紫外光刻(EUV)设备当然是制造先进芯片的关键。中国目前正在研发这些设备,但现阶段国内仍然依靠深紫外光刻(DUV)。逻辑折叠(LogicFolding)技术,是在获取某些技术受到限制的情况下,用来提升能力的一种方法。 另外,手机的主处理器需要先进制程,但手机中的许多其他部件并没有那么高的制程要求。因此,华为采用系统工程的方法,持续优化整体性能,弥补无法获得更先进制程的不足。 据此前报道,在 10 月 1 日的华为 Mate 90 系列及全场景新品发布会上,华为年度旗舰 ——Mate 90 系列手机正式发布,全系搭载了韬定律芯片。
根据华为官方介绍,韬定律提出了以“时间 (τ) 缩微”替代“几何缩微”作为半导体与电子系统演进的新指导原则 —— 通过逻辑折叠等创新技术,持续压缩信号传播时延,不断提升晶体管密度,从而实现半导体与电子系统的持续演进。 “逻辑折叠 (LogicFolding)”等核心技术构建了贯穿器件、电路、芯片到系统层面的多层级协同优化体系。该体系以系统性降低时间常数 τ 为目标,旨在驱动各层级性能、能效、晶体管密度的持续提升:
值得一提的是,预计到 2031 年,基于韬 (τ) 定律的高端芯片晶体管密度将达到 1.4 纳米制程的同等水平。
AI 解读 EUV受限下的替代路线
EUV是制造先进芯片的关键设备,没有它,芯片制程就很难往更小的纳米数走。余承东的表态说明,国内在研发EUV,但眼下还得靠DUV,所以华为选择在架构和系统层面找空间。 逻辑折叠的思路是把芯片内部的走线缩短,减少信号传输的电阻和电容,从而在同样面积里塞进更多晶体管。这和传统靠缩小晶体管尺寸来提升密度的路径不同,属于用时间换空间。 对普通用户来说,这意味着短期内手机性能的提升可能更多来自软硬协同和系统优化,而不是制程数字的跳跃。至于EUV研发进度、搭载机型的价格和上市时间,目前还没有公布。 制程受限时,架构和系统优化是更现实的性能来源。 以上内容由 AI 依据原文补充生成,不代表本站观点,仅供参考。 |
