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台积电 2 纳米芯片技术泄漏事件疑云,专家称涉事员工未接触敏感研发信息 ...

发布者: IT007编辑02| 2025-8-8 12:53| 查看: 52| 评论: 0|原作者: 故渊|来自: IT之家

摘要: 8 月 8 日消息,科技媒体 WccfTech 昨日(8 月 7 日)发布博文,报道称台积电 2nm 芯片技术泄漏事件所产生的危害,可能低于预期。分析人士认为,涉事员工权限较低,所涉信息更多与设备性能相关,不包含关键研发资料 ...
 

8 月 8 日消息,科技媒体 WccfTech 昨日(8 月 7 日)发布博文,报道称台积电 2nm 芯片技术泄漏事件所产生的危害,可能低于预期。分析人士认为,涉事员工权限较低,所涉信息更多与设备性能相关,不包含关键研发资料。


援引博文介绍,涉事员工隶属于台积电新竹 Fab 20 厂区,该工厂正筹备 2nm 工艺量产。该名员工疑似拍摄了控制图表或晶圆布局图,并将其分享给日本 TEL 公司员工,而 TEL 是台积电的设备供应商,提供光阻涂布机、显影机等核心设备。


Image shows Tokyo Electron's coater used in semiconductor fabrication


为 DigiTimes 撰稿的行业专家认为,涉事员工的相关行为,更可能出于安装设备过程中参考所需。台积电和 TEL 公司已解雇涉事员工,并表示“未发现机密信息外泄”。此外有观点认为,台积电选择开除该员工,或更多出于“杀鸡儆猴”的目的,以强化内部保密意识。

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